rericが開発した“APS-II”(アンティベーション・ポジション・システム)により、空気抵抗を減らすことに成功しました。袖口のシリコンプリントは肌に接するため、ベタツキの少ないドライタイプを採用。裾のシリコンプリントは生地に当たるため、グリップ力の高いステッキータイプを採用しました。UVカット機能も装備し、脇部分にはメッシュ素材を採用して吸汗速乾性をプラス。リフレクターを付けて視認性を高めているのもポイントです
2012年に日本のサイクリストのために向けて誕生した「reric」
サイクリストでもあり、アパレルデザイナーやパタンナーでもあったrericの創設メンバーたちが日本人の体格に合い、かつ走るための機能とデザインに満足できるウェアが無いなか、歴史あるヨーロッパのサイクルウェアブランドに負けない、質の高い製品を自分たちで作ろうとしたのがすべての始まり。
素材、生地、パターン、縫製といった研究し、商品作りをスタートしてから3年をかけて、rericは日本のサイクルマーケットに登場をしました。
ブランド名のrericの文字一つ一つに意味があり、
「Enjoy Ride」
「Inquire of Run」
「Everyday Challenge」
の頭文字を組み合わせて、名づけられました。
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